杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号文书，与深圳力策科技互助给与自主研发的真空气压式纳米压印决策，完竣8英寸光芯片可范围化量产考证。
据报谈，该时候所有绕开传统深紫外（DUV）光刻道路，将光芯片制变老本压缩至DUV决策的相配之一，为受ASML光刻机出口戒指的中国芯片产业带来了新的晨曦。
这次量产冲突的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻开辟，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，通盘这个词出产进程无需使用ASML的DUV光刻机。
不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式道路，该开辟给与“空气垫”式面斗殴压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性误差抵制在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期解救硬质与柔性模板，2026世界杯博亚体育(中国)官方平台线宽区别率可达10nm以下。
比拟辊压的线斗殴款式，气压式透顶搞定了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的恶果更符合光芯片的大范围出产。
更要道的是，纳米压印时候完竣了跨轨范微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯一刹，面临从几十纳米到数微米的复杂结构需要多谈工艺和多台开辟配合，新京澳门葡萄城(股份)有限公司而纳米压印只需将通盘结构制作在归拢派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅镌汰了出产周期并斥责了良率损耗。
当今，该时候已在多个光芯片范围完竣量产考证，这些光芯片平日诳骗于光通讯、传感和激光雷达范围。
不外，行业关于纳米压印时候的实质价值仍存在平日争议。《南华早报》指出，该时候在量产范围、良率以及非光子芯片范围的适用性尚未获取充分考证。
探讨机构SemiAnalysis示意，尽管纳米压印开辟本人老本更低，但其实质老本上风取决于产能、模板出产、缺点率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未裸露具体的出产良率、出货量、客户订单及沉寂考证数据，其贸易化范围仍有待进一步不雅察。
这次冲突也反应出在好意思国主导的出口料理下，中国科技企业探索各异化时候道路的举座趋势。从华为近期提倡的韬（τ）定律将发展重点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到千般开辟初创企业在细分芯片范围寻找实用的制造替代决策，国产半导体产业正在通过多条旅途冲突时候阻塞。
竖立于2017年的璞璘科技，首创东谈主葛海雄兵从纳米压印时候前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已托付中国首台半导体级纳米压印光刻开辟。这次8英寸光芯片量产冲突，记号着国产纳米压印时候从实践室走向产业化诳骗的要道一步。
PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机
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